Cuantificación electroquímica de la superficie electroactiva de nanopartículas de Au soportadas sobre ITO a diferentes monocapas mediante electrodepósito de Cu a subpotencial

dc.contributor.authorAldana González, Jorge Iván
dc.contributor.authorOlvera García, Juan Carlos
dc.contributor.authorMontes de Oca Yemha, María Guadalupe
dc.contributor.authorRamírez Silva, María Teresa
dc.contributor.authorRomero Romo, Mario Alberto
dc.contributor.authorPalomar Pardavé, Manuel Eduardo
dc.creatorALDANA GONZALEZ, JORGE IVAN; 267687
dc.creatorOlvera García, Juan Carlos
dc.creatorMONTES DE OCA YEMHA, MARIA GUADALUPE;#0000-0002-1637-1688
dc.creatorRAMIREZ SILVA, MARIA TERESA; 11050
dc.creatorROMERO ROMO, MARIO ALBERTO;#0000-0002-5783-5776
dc.creatorPalomar Pardavé, Manuel Eduardo;#0000-0002-2944-3599
dc.date.accessioned2022-08-31T19:58:23Z
dc.date.available2022-08-31T19:58:23Z
dc.date.issued2015
dc.description.abstractEn el presente trabajo, se llevó a cabo la determinación del área superficial activa, ASA, de nanopartículas de Au, AuNPs, soportadas sobre ITO, a diferentes monocapas de AuNPs. Para llevar a cabo lo anterior, se formaron monocapas de AuNPs sobre la superficie del electrodo de ITO a través de un policatión, la poli L-lisina, PLL, entre cada capa. Una vez formada cada monocapa, se lleva a cabo el proceso de electrodepósito de Cu a subpotencial, UPD, en una disolución acuosa de Cu²⁺, empleando las técnicas electroquímicas de voltamperometría cíclica y cronoamperometría. Del análisis de los transitorios potenciostáticos de corriente se determinó la carga eléctrica involucrada en el proceso de formación de cada monocapa, y a partir de esta se determinó el ASA con respecto a las monocapas 1, 2 y 5.es_MX
dc.description.abstractThe present work was conducted to determine the active surface area, ASA, of Au nanoparticles, AuNPs, supported on ITO, to different monolayers AuNPs. To perform the above, AuNPs monolayers on the surface of ITO electrode is formed through a polycation, poly L-lysine, PLL, between each layer. Each monolayer once formed, is held the Cu electroplating process underpotential, UPD, in an aqueous solution of Cu²⁺, using electrochemical techniques such as cyclic voltammetry and chronoamperometry. Analysis potentiostatic current transient electrical load involved in the formation of each monolayer was determined, and from this, the ASA was determined over monolayers 1, 2 and 5.
dc.formatpdfes_MX
dc.identificator2||23||2307||221005es_MX
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11191/8969
dc.language.isospaes_MX
dc.publisherUniversidad Autónoma Metropolitana (México). Unidad Azcapotzalco. División de Ciencias Básicas e Ingeniería.es_MX
dc.rightsAtribución-NoComercial-SinDerivadas
dc.rights.accesopenAccesses_MX
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0
dc.sourceRevista Tendencias en Docencia e Investigación en Química. Año 1, número 1 (enero-diciembre de 2015). ISSN: 2448-6663
dc.subjectAuNPs, electrodepósito de Cu, ITO. Cu electrodeposition.es_MX
dc.subject.classificationBIOLOGÍA Y QUÍMICA::QUÍMICA::QUÍMICA FÍSICA::ELECTROQUÍMICAes_MX
dc.titleCuantificación electroquímica de la superficie electroactiva de nanopartículas de Au soportadas sobre ITO a diferentes monocapas mediante electrodepósito de Cu a subpotenciales_MX
dc.typeArtículoes_MX

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Cuantificacion_electroquimica_2015.pdf
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Cuantificación electroquímica de la superficie electroactiva