Estudio de esfuerzos mecánicos en materiales oftálmicos mediante fotoelasticidad

Abstract

El siguiente trabajo muestra la obtención de la distribución de esfuerzos presentes en polímeros oftálmicos de CR39 mediante el análisis fotoelástico. Dentro de las actividades realizadas se encuentra la simulación mecánica y óptica de la distribución de esfuerzos en disco plano sometido a compresión diametral. También es posible encontrar el análisis cualitativo de esfuerzos empleando el método de elemento finito (FEM). La simulación óptica de los componentes de los polarizadores reproduce el comportamiento de los algoritmos comúnmente utilizados dentro del análisis fotoelástico. Estos algoritmos son el de 3 pasos o de Sarma, de 5 pasos o de Dupré, de 6 pasos o de Patterson y el de 10 pasos o Ramji. La información experimental se obtiene a través del uso de un polariscopio lineal y un polariscopio circular implementando los mismos pasos desarrollados en la etapa de la simulación óptica. El procesamiento de la información permite la obtención de las fases isóclinas e isocromáticas, esenciales para determinar el retardo de la muestra y con ello la constante de franjas. La obtención de esta fase genera la información necesaria para aplicar la ley de esfuerzo óptico, permitiendo así la obtención de la distribución de esfuerzos dentro de cada lente.