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Autor:Cervantes Baqué, Adolfo Alberto
Fecha de publicación:2020
URI:http://hdl.handle.net/11191/7503
Resumen:Módulo patrón y sistema. Estos conceptos son básicos como principios de diseño y se utilizan para generar y proponer ordenamientos del espacio formal tanto en el espacio tanto en su aspecto bidimensional como tridimensional. Son buenas oportunidades para manejar y ejercer todos los tipos de simetría tanto de sucesión incluyendo la simetría de rotación, como la simetría de reflexión y la dilatación y contracción. El presente diaporama inicia por sugerir varias aplicaciones en las diversas carreras de diseño, para luego mostrar ejercicios propuestos por alumnos de la Unidad de Enseñanza-Aprendizaje Lenguaje Básico, del primer trimestre del tronco general de asignaturas.
Formato:pdf
Idioma:spa
Editor:Universidad Autónoma Metropolitana (México). Unidad Azcapotzalco. División de Ciencias y Artes para el Diseño.
Materias:HUMANIDADES Y CIENCIAS DE LA CONDUCTA::CIENCIAS DE LAS ARTES Y LAS LETRAS
Título:Paquete didáctico: Goteo o Dripping, técnica pictórica en acuarela y para impartir acabados
Título alternativo:Goteo o Dripping, técnica pictórica en acuarela y para impartir acabados
Tipo de publicación:Presentation
Origen del formato:Born digital


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