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dc.contributor.authorCervantes Baqué, Adolfo Alberto
dc.date.issued2020
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11191/7503
dc.description.abstractMódulo patrón y sistema. Estos conceptos son básicos como principios de diseño y se utilizan para generar y proponer ordenamientos del espacio formal tanto en el espacio tanto en su aspecto bidimensional como tridimensional. Son buenas oportunidades para manejar y ejercer todos los tipos de simetría tanto de sucesión incluyendo la simetría de rotación, como la simetría de reflexión y la dilatación y contracción. El presente diaporama inicia por sugerir varias aplicaciones en las diversas carreras de diseño, para luego mostrar ejercicios propuestos por alumnos de la Unidad de Enseñanza-Aprendizaje Lenguaje Básico, del primer trimestre del tronco general de asignaturas.
dc.formatpdf
dc.language.isospa
dc.publisherUniversidad Autónoma Metropolitana (México). Unidad Azcapotzalco. División de Ciencias y Artes para el Diseño.
dc.subject.classificationHUMANIDADES Y CIENCIAS DE LA CONDUCTA::CIENCIAS DE LAS ARTES Y LAS LETRAS
dc.titlePaquete didáctico: Goteo o Dripping, técnica pictórica en acuarela y para impartir acabados
dc.title.alternativeGoteo o Dripping, técnica pictórica en acuarela y para impartir acabados
dc.typePresentation
dc.format.digitalOriginBorn digital


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